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第209章 计算机辅助光刻掩膜工艺(第1页)

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法国巴黎。

北郊维勒潘特展览中心工业博览会会场。

设在偏僻角落里的中国馆却是人声鼎沸,除了各国参展的客商,还有推波助澜的媒体记者,很多人都是抱着看笑话的心态在围观……巴黎领馆负责接机的同志,把莫铮领到代表团团长宋予乔面前,给双方做了简单的介绍。

“莫总,您终于来了,你看现场乱的,头皮都要炸了……”

宋予乔顾不上寒暄,三言两语把情况做了介绍。

“走一步看一步吧!

国内光刻机方面的技术专家会很快赶过来!

我先过去看看……”

莫铮快速浏览完光刻机展品的各项技术参数,已经挤到人群中央。

“天哪!

你们连光刻机的底层逻辑都不清楚,居然敢声称研发出了全球最先进的光刻机……”

“他们连水稻都敢亩产几万斤,何况一台无法验证的光刻机?”

“也不能一概而论,或许中国人是出于技术保密的缘故呢?”

“艾达,你不会真的相信一个因为封锁禁运,长期与外界隔绝的国家,能够研发出尖端的光刻机吧?”

“我觉得没有什么不可能,光刻机比原子弹还难吗?一个能够独立完成两弹一星的国家,研发出来光刻机,有什么不可能的?”

…………被围得水泄不通的展厅门口,多国语言此起彼伏,如同喧闹的菜市场。

莫铮好不容易挤到人群中央,使劲鼓了鼓掌,然后大声用英语说道:“各位业界同仁,以及媒体朋友,我叫莫铮,接下来就由我来回答大家的问题!

请提问者使用英文或者中文提问,使用其它语种的,请自备翻译……”

“莫先生,我是东京电子株式会社的商务代表小岛正雄,你能不能给我们介绍一下这台光刻机的各项性能?”

一名留着八字胡的日本人,用日语问道。

“这位先生,请您使用英语或者中文提问!”

代表团带来的翻译刚准备翻译,被莫铮摆摆手止住之后说道。

小岛正雄吃了个下马威,只能用英语,把刚才的提问重新复述了一遍。

“各位,这是中国华清大学自主研发的gk-3型半自动光刻机,加工精度3微米,达到世界领先水平!

采用的是计算机辅助光刻掩模工艺……”

莫铮用流利的英文滔滔不绝的介绍道。

“纳尼?3微米的加工精度?这绝不可能!

连我们东京电子株式会社都没有达到!

你们怎么可能生产出这么高精度的光刻机……”

小岛正雄瞪大了眼睛质疑道。

“东电在日本也只是一个二流半导体设备企业,被尼康和佳能牢牢压制,生产不出来不是很正常嘛!”

莫铮轻描淡写的说道。

围观的人群中,传来一阵哄笑声,绝大部分欧美客商,也打心里讨厌一向趾高气昂的日企。

“你们中国人一贯:()重回1975:材料王国

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